奥豪斯HB2DGHL数显带加热盖双模块干式金属浴

奥豪斯HB2DGHL数显带加热盖双模块干式金属浴，浴适用于需要可重复结果和出色温度稳定性的应用。这些金属浴极其适合于恒温培养、酶反应、免疫分析、核酸变性和诸多其他实验流程。带有锁定旋钮的内置托杆支座，可容纳外置温度探头组件。外置温度探头组件可检测模块或样品实际温度。金属浴可容纳一个微孔板块或两个单独的可换模块。。。
控制方式数显控制
温度范围高于环境5℃~100℃

奥豪斯HB2DGHL数显带加热盖双模块干式金属浴

产品介绍：

  多用途干式金属浴适用于对温度稳定性有严格要求的应用。试管与模块壁紧密接触可 以实现大的热量保留，实现高效加热。高功率、固定温度，数显控制型号提供 的温度稳定性和*性，适合需要可重复结果的应用。设备可选40多个恒温模块。

• 提供的温度稳定性和*性

• 带加热盖型号可避免样品出现冷凝现象并保持样品体积不变

• 温度可校准，允许用户使用外部设备校准温度

产品特点

  奥豪斯带盖数显干式金属浴适用于需要可重复结果和出色温度稳定性的 应用。这些金属浴极其适合于恒温培养、酶反应、免疫分析、核酸变 性和诸多其他实验流程。带有锁定旋钮的内置托杆支座，可容纳外置 温度探头组件。外置温度探头组件可检测模块或样品实际温度。金属 浴可容纳一个微孔板块或两个单独的可换模块，以适用于不同尺寸试 管、0.2 mL微型管到高度达85 mm的试管或烧瓶。每个模块上带有一个 用于测量模块温度的温度计槽。试管和模块壁紧密接触实现高效加热， 确保出色的温度均匀性。加热盖有助于调节温度、减少样品出现冷凝 的现象。金属浴需要使用奥豪斯加热模块运行。

操作特点：

微处理控制器：带有外置RTD探头的PID温度控制装置，使温度稳定性 的变化小于± 0.1°C，温度均匀性变化也小于± 0.1°C，加热快速、升温准 确。允许用户以± 0.1°C增量调节温度。

LED显示屏：触摸式操作面板带易于读数、显示温度和时间的LED 屏。设备始终提供可重复和准确的结果，在实验室工作台即可轻松查 看。LED屏显示设定值与实际温度。定时器显示已用时间，也可将其编 程为用户定义的限值，当时间达到零时设备自动关闭。显示屏将显示上 一次使用的设置，即使断电后也可显示。

温度校准模式：允许用户使用外部设备校准温度。

安全保障：

高温指示器：当温度超过40°C时高温指示灯自动点亮。

过温保护：当超过设定温度10°C时，设备将自动停止加热。

警报器：在定时模式下，当时间达到零值或设备达到设定温度时，警报 器将发出声音警报。

注意：为了避免造成触电危险，请勿用水或其他液体加注槽或加热模块 开口。设备可用于干浴器/恒温培养箱。

技术参数:

工作条件： 设备可在温度18-33°C，相对湿度20%-80%的非冷凝条件下运行。

应用： 等温孵育、酶反应、免疫测定、核酸变性及其他实验室流程。

订货信息： 标配一个可拆3脚插头，选件温度探头详见下面彩页，模块单独销售。

订货信息：

奥豪斯HB2DGHL数显带加热盖双模块干式金属浴